近期，智利政府公布了商标、专利等相关法律的改法决定，与专利相关的改法内容如下：
（1）改法后，专利著录项变更官费须在提交转让记录请求时一并缴纳，专利局有权要求申请人进一步提供相关文件；
（2）有关支付专利维持费的新规定；
（3）将工业外观设计的保护期延长至15年；
（4）工业外观设计提交时可选择无需实质审查的自动注册程序，但未经实审的外观设计不能提起侵权诉讼；
（5）由于行政拖延造成的审查周期过长，申请人请求专利补充保护期限的时间自专利授权日起的6个月改为60天（工作日）；
（6）PCT进入智利国家阶段权利恢复截止日期的变化；
（7）增加超页费（超过80页，每增加20页加收88美元）及延迟缴纳申请官费（改法后，专利申请费应在提交申请时或自申请日起30个工作日内缴纳，逾期不缴纳视为放弃）的规定；
（8）增加临时申请类型。
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